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结型场效应管的结构和工作原理

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结型场效应管的结构和工作原

理(总4页)

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结型场效应管(JFET)的结构和工作原理

1. JFET的结构和符号

N沟道JFET P沟道JFET

2. 工作原理(以N沟道JFET为例)

N沟道JFET工作时,必须在栅极和源极之间加一个负电压——VGS< 0,在D-S间加一个正电压—— VDS>0.

栅极—沟道间的PN结反偏,栅极电流iG0,栅极输入电阻很高(高达107以上)。 N沟道中的多子(电子)由S向D运动,形成漏极电流iD。iD的大小取决于VDS的大小和沟道电阻。改变VGS可改变沟道电阻,从而改变iD 。

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主要讨论VGS对iD的控制作用以及VDS对iD的影响。 ①栅源电压VGS对iD的控制作用

当VGS<0时,PN结反偏,耗尽层变宽,沟道变窄,沟道电阻变大,ID减小;VGS更负时,沟道更窄,ID更小;直至沟道被耗尽层全部覆盖,沟道被夹断, ID≈0。这时所对应的栅源电压VGS称为夹断电压VP。

②漏源电压VDS对iD的影响

在栅源间加电压VGS < 0 ,漏源间加正电压VDS > 0。则因漏端耗尽层所受的反偏电压为VGD=VGS-VDS,比源端耗尽层所受的反偏电压VGS大,(如:VGS=-2V, VDS =3V, VP=-9V,则漏端耗尽层受反偏电压为VGD=-5V,源端耗尽层受反偏电压为-2V),使靠近漏端的耗尽层比源端宽,沟道比源端窄,故VDS对沟道的影响是不均匀的,使沟道呈楔形。

当VDS增加到使VGD=VGS-VDS =VP 时,耗尽层在漏端靠拢,称为预夹断。

当VDS继续增加时,预夹断点下移,夹断区向源极方向延伸。由于夹断处电阻很大,使VDS主要降落在该区,产生强电场力把未夹断区的载流子都拉至漏极,形成漏极电流ID。预夹断后ID基本不随VDS增大而变化。

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①VGS对沟道的控制作用

当VGS<0时,PN结反偏耗尽层加厚沟道变窄。 VGS继续减小,沟道继续变窄。当沟道夹断时,对应的栅源电压VGS称为夹断电压VP ( 或VGS(off) )。对于N沟道的JFET,VP <0。

②VDS对沟道的控制作用

当VGS=0时,VDSID , G、D间PN结的反向电压增加,使靠近漏极处的耗尽层加

宽,沟道变窄,从上至下呈楔形分布。

当VDS增加到使VGD=VP 时,在紧靠漏极处出现预夹断。此时VDS 夹断区延长沟道电阻ID基本不变。 ③ VGS和VDS同时作用时

当VP 4

综上分析可知

沟道中只有一种类型的多数载流子参与导电, 所以场效应管也称为单极型三极管。 JFET栅极与沟道间的PN结是反向偏置的,因此iG0,输入电阻很高。 JFET是电压控制电流器件,iD受vGS控制。

预夹断前iD与vDS呈近似线性关系;预夹断后,iD趋于饱和。

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