专利名称：可流动含硅膜的沉积专利类型：发明专利
发明人：L·卡鲁塔拉格,M·萨利,D·汤普森,A·B·玛里克,T·阿肖
克,P·曼纳
申请号：CN201780044398.0申请日：20170719公开号：CN109477214A公开日：20190315
摘要：描述了用于无缝间隙填充的方法，包括通过将基板表面暴露于含硅前驱物和共反应物来形成可流动膜。所述含硅前驱物具有至少一个烯基或炔基。可通过任何合适的固化工艺固化所述可流动膜，以形成无缝间隙填充。
申请人：应用材料公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：上海专利商标事务所有限公司
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