处理印染废水的铜掺杂涂层电极的制备方法[发明专利]

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专利名称：处理印染废水的铜掺杂涂层电极的制备方法专利类型：发明专利

发明人：丁国际,赵磊,李珊,胡梦楠,焦正申请号：CN2015102773.5申请日：20150521公开号：CN104876305A公开日：20150902

摘要：本发明公开了一种处理印染废水的铜掺杂涂层电极的制备方法，制备了铜掺杂的钛基锡锑氧化物涂层电极，属于电催化水处理技术领域。本发明方法的工艺过程如下：制备锡锑锰中间层涂液，均匀涂于经过表面预处理的钛板上鼓风干燥后，450-550℃煅烧1-3h。再将铜掺杂的锡锑活性层涂液，均匀涂于经过煅烧后的钛板表面，鼓风干燥后450-550℃煅烧1-3h，重复1次。此制备方法工艺简单，可控性好，活性层采用常见的铜掺杂，溶剂毒性和生产成本大大降低，所制电极具有较高的析氧过电位和较大的电容量，可以高效彻底地处理印染废水。

申请人：上海大学

地址：200444 上海市宝山区上大路99号

国籍：CN

代理机构：上海上大专利事务所(普通合伙)

代理人：顾勇华

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