一种降低成膜腔室中微粒杂质的方法及装置[发明专利]

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专利名称：一种降低成膜腔室中微粒杂质的方法及装置专利类型：发明专利发明人：张文波

申请号：CN201510405071.4申请日：20150710公开号：CN104947036A公开日：20150930

摘要：本发明公开了一种降低成膜腔室中微粒杂质的方法及装置，其中方法包括：对玻璃进行表面活化，将玻璃置于成膜腔室中，通过玻璃吸附成膜腔室中的微粒杂质，将吸附有微粒杂质的玻璃从成膜腔室中取出。通过上述方式，本发明可降低液晶工艺中的PVD或CVD制程中成膜腔室中的微粒杂质，避免由于微粒杂质导致的成膜后膜层损伤、膜脱、器件失效等缺陷，降低因为微粒杂质造成的产品良率损失。

申请人：武汉华星光电技术有限公司

地址：430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋

国籍：CN

代理机构：深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：何青瓦

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