专利名称：一种硅片清洗槽专利类型：实用新型专利
发明人：刘彬国,何京辉,李立伟,张立涛,张稳申请号：CN201420703272.3申请日：20141121公开号：CN204289404U公开日：20150422
摘要：本实用新型公开了一种硅片清洗槽，涉及硅片清洗技术领域，清洗槽为长方体形状，在清洗槽的上部设有进水口和溢流口，所述溢流口的高度低于进水口的高度，所述清洗槽的槽底板为可震动的钢板，所述钢板的外侧底面上连接有超声波换能器。该装置利用超声波震动对硅片表面的杂质进行清洗，可有效清除硅片表面附着的砂浆等物质，并且可直观的观测硅片表面的清洗情况，操作简单快捷。
申请人：邢台晶龙电子材料有限公司
地址：054001 河北省邢台市开发区南三环广通路516号
国籍：CN
代理机构：石家庄国为知识产权事务所
代理人：米文智
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