专利名称：电子束加工装置专利类型：发明专利发明人：池田功,尾岛茂夫申请号：CN200410045865.6申请日：20040525公开号：CN1577703A公开日：20050209
摘要：本发明提供既能防止离子束向中央偏移又能维持加速栅极的冷却效果的电子束加工装置。该装置包括：等离子生成室(1)、安装在等离子生成室的开口部前面的屏栅极(2)、在屏栅极的前面按一定间隔配置的加速栅极(3)和具有安装在加速栅极(3)前面的比加速栅极(3)的细孔(3a)设置范围更宽的开口部(5a)的冷却套(5)。以使冷却套(5)的开口部沿离子束行进方向呈逐渐扩大的形状，可使等电位线与加速栅极(3)呈大致平行，既能防止离子束向中央偏移，又能维持对加速栅极(3)的冷却效果。
申请人：株式会社村田制作所
地址：日本京都府
国籍：JP
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：黄永奎
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